|
Нашей фирмой разработан ряд ионных источников различных размеров и устройств на их основе, раелизующих метод ионно-лучевого нанесения пленочных покрытий распылением соответсвующих мешений (металлов, полупроводнимков, диэлектреков, магнитных материалов и органики) лучом энергитических ионов, рабочих газов, а также ряд источников для очистки, травления, активации поверхности подложек и растущей пленки в вакууме.
Схема технологических процессов ионно-лучевой очистки, травления и активации поверхности подложек (а), и ионно-лучевого нанесесения (б).
Краткие технические характеристики ионных источников
- рабочее напряжение 1-5 kV
- ток разряда 10-1000 mA
- рабочий газ аргон,азот,кислород,смеси газов
- рабочее давление 5х10 -4 мм.ст.ст
- диаметр мишени 30-200 мм.
- распыляемые материалы - любые
|
